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簡介光敏印章類型:北京刻章 加入時(shí)間:2015-9-22 返回列表
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和光敏印章相關(guān)的知識(shí),北京刻章在之前的文章中提到過許多。想要更加詳細(xì)的了解北京刻章標(biāo)題中這種印章可以參考下此文。 光敏印章的工藝特點(diǎn)是印面相對(duì)比較平整,印面字跡是由光敏橡膠墊 上的微孔組成的,印油在壓力作用下,通過印面文字微孔滲出形成印文,它是由一種特殊的化工合成材料,通過專用設(shè)備瞬間發(fā)出強(qiáng)光輔射,使材料表面發(fā)生光氧化及熱交聯(lián)作用從而制成的印章。光敏印章的面世可以說是印章行業(yè)的一次革命,完全顛覆了傳統(tǒng)印章的凹凸成像原理。利用特殊感光材料制成。具有成像極其清晰,無需印泥,即印即干的特點(diǎn)。 |
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